廣告
二氧化硅 (SiO_2) 薄膜具有硬度高、耐磨性好、絕緣性好等優(yōu)點(diǎn)常作為絕緣層材料在薄膜傳感器生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用. 某光學(xué)薄膜制造商為了獲得高品質(zhì)的 SiO_2薄膜引進(jìn)伯東 KRI 聚焦型輔助離子束濺射鍍制SiO_2薄膜.
該制造商的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙、濺射靶、基片臺(tái)、真空氣路系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等部分組成.
離子源濺射離子源采用進(jìn)口的 KRI 聚焦型, 其參數(shù)如下:
|
射頻型號(hào) |
RFICP 380 |
|
Discharge 陽(yáng)極 |
射頻 RFICP |
|
離子束流 |
>1500 mA |
|
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
30 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦 |
|
流量 |
15-50 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長(zhǎng)度 |
39 cm |
|
直徑 |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
1. 聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率
2. 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
其真空氣路系統(tǒng)真空系統(tǒng)需要沉積前本底真空抽到 8×10-4 Pa, 經(jīng)推薦采用伯東泵組 Hicube 80 Pro, 其技術(shù)參數(shù)如下：
|
進(jìn)氣法蘭 |
氮?dú)獬樗?br /> N2,l/s |
極限真空 hpa |
前級(jí)泵 型號(hào) |
前級(jí)泵抽速 |
前級(jí)真空 |
|
DN 40 ISO-KF |
35 |
< 1X10-7 |
Pascal 2021 |
18 |
AVC 025 MA |
運(yùn)行結(jié)果：
伯東是德國(guó) , , , , 美國(guó) , 美國(guó), 美國(guó) , 美國(guó) Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺(tái)灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！
