搜產(chǎn)品
搜企業(yè)
客服電話:13631151688
廣告
為了獲取高性能紫外激光薄膜元件, 急需研制紫外高吸收薄膜, 某研究所采用伯東 KRI 雙輔助離子束濺射沉積技術(shù)鍍制 Ta2O5 薄膜進行研究.
其系統(tǒng)工作示意圖如下：
該研究所的離子束濺射鍍膜組成系統(tǒng)主要由濺射室、雙、濺射靶、基片臺等部分組成.
其中雙離子源中的一個離子源適用于濺射靶材, 另個離子源是用于基材的預(yù)清洗.
|
射頻型號 |
RFICP 380 |
|
Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
|
離子束流 |
>1500 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
30 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦 |
|
流量 |
15-50 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
39 cm |
|
直徑 |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
推薦理由：
聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
KRI Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):
|
型號
|
|
|
Cathode/Neutralizer |
HC |
|
電壓 |
50-250V |
|
電流 |
20A |
|
散射角度 |
>45 |
|
可充其他 |
Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
|
氣體流量 |
5-100sccm |
|
高度 |
6.0“ |
|
直徑 |
9.7“ |
|
水冷 |
可選 |
其濺射室需要沉積前本底真空抽到 1×10-5Pa, 經(jīng)推薦采用伯東, 其技術(shù)參數(shù)如下：
|
進氣法蘭 |
氮氣抽速 |
極限真空 hpa |
前級泵 型號 |
前級泵抽速 |
前級真空 |
|
DN 40 ISO-KF |
35 |
< 1X10-7 |
Pascal 2021 |
18 |
AVC 025 MA |
運行結(jié)果：
伯東 KRI 雙離子源輔助離子束濺射技術(shù)可以制備不同吸收率的355nm高反射吸收 Ta2O5 薄膜.
伯東是德國 , , , , 美國 , 美國, 美國 , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進口品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！