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使用平面磁控濺射陰極進行反應性濺射時的”靶中毒”和”陽極消失”, 這兩問題一直是玻璃鍍膜行業(yè)的難題.
某國內(nèi)玻璃制造商采用 KRI 考夫曼平行型 離子清洗技術沉積在靶面和陽極表面的反應產(chǎn)物, 如氧化物, 從而保持靶和陽極表面導電性, 避免發(fā)生”靶中毒”和”陽極消失”現(xiàn)象.
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伯東 KRI 射頻 RFICP 380 技術參數(shù)：
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射頻型號 |
RFICP 380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
推薦理由：
1. 使用 KRI 考夫曼平行型射頻 RFICP 380 可以準確、靈活地對樣品選定的區(qū)域進行清洗
2. 功率大, 離子束流高, 滿足客戶工藝要求
3. 清洗速率快
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工作原理:
在真空室充入 100sccm 的氬氣, 利用 KRI 考夫曼平行型 把氬氣電離, 形成離子體, 利用氬離子撞擊靶面, 從靶面上撞出錫原子或氧化錫分子, 完成對錫靶的清潔. 撞擊出來的錫原子撞擊陽極表面, 吸附陽極表面與表層銦結合力不強的部分氧化錫分子, 完成對陽極表面的清洗.
其清洗實施工作圖如下:
一次清洗大約用時15s, 前5秒主要清潔靶面, 后10秒清潔陽極表面.
運行結果：
有效的清潔陰極靶面和陽極表面, 保持陰極靶面和陽極表面良好的導電性, 避免發(fā)生”靶中毒”和”陽極消失”現(xiàn)象
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