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KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

作者:伯東企業(yè)(上海)有限公司 來源:hakuto 發(fā)布時間:2023-05-04 瀏覽:11
KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

某光學薄膜制造商采用20cm 的濺射源為 KRI 考夫曼 RFICP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

 

伯東 KRI  RFICP220 技術(shù)參數(shù):

型號

RFICP220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

可選燈絲中和器可變長度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

運行結(jié)果:

1. 采用 KRI 考夫曼 RFICP220 鍍制的 LaF3 薄膜折射率更高且不存在折射率的梯度分布

2. 制備的 LaF3薄膜的環(huán)境穩(wěn)定性更高

3. 濺射制備的減反膜透過率為99.2%反射率為 0.1%表現(xiàn)了較好的光學特性

 

伯東是德國  , , , , 美國  , 美國HVA 真空閥門美國  , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進口品牌的指定代理商.

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論請參考以下聯(lián)絡方式:

上海伯東羅先生                               臺灣伯東王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
                    

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