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磁控就是通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),抗反射玻璃利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率的方法。AR玻璃就是利用這種技術(shù)在普

作者:陽(yáng)程光電有限公司 來(lái)源:fdumsci 發(fā)布時(shí)間:2011-09-27 瀏覽:454

磁控就是通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),抗反射玻璃利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率的方法。AR玻璃就是利用這種技術(shù)在普

通的強(qiáng)化玻璃表面鍍上一層減反射膜,有效地消減了玻璃本身的反射,增加了玻璃的透過(guò)率。歡迎光臨公司官網(wǎng)http://
   磁控濺射是指電子在電場(chǎng)E的作用下,在飛向基片過(guò)程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出Ar 和新的電子;新電子飛向基片,Ar 在電場(chǎng)作用下加

速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜,而產(chǎn)生的二次電子會(huì)受到電場(chǎng)

和磁場(chǎng)作用,產(chǎn)生E(電場(chǎng))×B(磁場(chǎng))所指的方向漂移,簡(jiǎn)稱(chēng)E×B漂移,其運(yùn)動(dòng)軌跡近似于一條擺線(xiàn)。
    隨著碰撞次數(shù)的增加,二次電子的能量消耗殆盡,逐漸遠(yuǎn)離靶表面,并在電場(chǎng)E的作用下最終沉積在基片上。由于該電子的能量很低,傳遞給基片的

能量很小,致使基片溫升較低。
    磁控濺射種類(lèi)繁多,各有不同工作原理和應(yīng)用對(duì)象,但都是利用磁場(chǎng)與電子交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運(yùn)行,從而增大電子撞擊氬氣

產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場(chǎng)作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

鄭重聲明:資訊 【磁控就是通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng),抗反射玻璃利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率的方法。AR玻璃就是利用這種技術(shù)在普】由 陽(yáng)程光電有限公司 發(fā)布,版權(quán)歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內(nèi)容未經(jīng)(企業(yè)庫(kù)www.5ix2s.cn)證實(shí),請(qǐng)讀者僅作參考,并請(qǐng)自行核實(shí)相關(guān)內(nèi)容。若本文有侵犯到您的版權(quán), 請(qǐng)你提供相關(guān)證明及申請(qǐng)并與我們聯(lián)系(qiyeku # qq.com)或【在線(xiàn)投訴】,我們審核后將會(huì)盡快處理。
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