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應(yīng)用于超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備 UHV E-beam System
超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12 torr, 超高真空環(huán)境對(duì)于科學(xué)研究非常重要, 因?yàn)閷?shí)驗(yàn)通常要求在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過程中, 表面應(yīng)保持無污染狀態(tài)和使用低能電子和離子的實(shí)驗(yàn)技術(shù)的使用, 而不會(huì)受到氣相散射的過度干擾, 在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍可以提供高質(zhì)量的薄膜. 上海伯東代理美國(guó) 可以在蒸鍍過程中實(shí)現(xiàn)預(yù)清潔和輔助鍍膜的作用.
如上圖是超高真空電子束蒸鍍?cè)O(shè)備, 針對(duì)超高真空和高溫加熱設(shè)計(jì)基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機(jī)構(gòu), 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護(hù)機(jī)構(gòu)以確保長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性.
上海伯東美國(guó) KRI RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)! RFICP 系列提供完整的套裝, 套裝包含離子源本體, 電子供應(yīng)器, 中和器, 自動(dòng)控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 有效改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.
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