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KRi 射頻離子源應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝

作者:伯東企業(yè)(上海)有限公司 來源:hakuto 發(fā)布時間:2023-07-04 瀏覽:14

應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
上海伯東某客戶為精密光學鍍膜產(chǎn)品生產(chǎn)商, 生產(chǎn)過程中需在白玻璃上進行鍍膜. 由于國產(chǎn)鍍膜設備在射頻和光控性能方面的限制, 鍍制過程易出現(xiàn)溫漂現(xiàn)象, 材料折射率不高, 品質無法保證; 且工藝上需要加熱, 這大大增加了鍍膜時間. 經(jīng)過伯東推薦選用國產(chǎn)鍍膜機加裝美國進口 KRi 進行輔助鍍膜, 保證工藝效果, 提高生產(chǎn)效率.
紅外截止濾光片是一種用于過濾紅外波段的濾鏡, IRCF 利用精密光學鍍膜技術在白玻璃, 藍玻璃或樹脂片等光學基片上交替鍍上高低折射率的光學膜, 其可通過實現(xiàn)近紅外光區(qū)截止以消 除紅外光對成像的影響, 是高性能攝像頭的必備組件, 工藝上對所用的鍍膜設備有著極高的要求.
KRi 應用于紅外截止濾光片 IRCF 工藝
應用領域: 光學鏡頭
薄膜工藝: IR-CUT
產(chǎn)品類別: 紅外截止濾光片
應用方向: 國產(chǎn)鍍膜機加裝 進行離子清洗和輔助沉積, 實現(xiàn) IR-CUT 單面鍍膜
美國 KRi 考夫曼品牌射頻離子源通過輔助鍍膜在白玻璃 IRCF 上進行工藝升級, 解決溫漂問題, 上海伯東美國 KRi  RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長!  適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 中國總代理.
 

KRi 射頻離子源


美國 KRi RFICP 技術參數(shù):

型號

Discharge 陽極

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

RF 射頻

離子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

離子動能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

柵極直徑

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

離子束

聚焦, 平行, 散射

 

流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

長度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直徑

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000


上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的, , 等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn), 和. 美國歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專 利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域.
若您需要進一步的了解 , 請參考以下聯(lián)絡方式


上海伯東: 羅先生                                臺灣伯東: 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                         F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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