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鍍膜技術 IAC 是利用沉積原子和轟擊離子之間一系列的物理化學作用, 可在常溫下合成各種薄膜. 其關鍵技術是離子源、靶室和工藝參數(shù)的控制.
離子源是產(chǎn)生所需離子的關鍵部件, 它的種類與質量決定著制備膜層的性能和質量. KRI 考夫曼離子源, 它能產(chǎn)生氣體元素的大面積離子束, 適合用于離子束濺射鍍膜、對膜層進行離子束轟擊以及對工件進行離子束表面清洗.
伯東為客戶提供柵極離子源和無柵離子源, 客戶可根據(jù)自己的工藝需求, 選擇不同的離子源.
伯東 KRI 離子源有:
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靶室
靶室是裝載工件, 進行離子束表面處理的部件, 它的容積大小、靶的工件夾具機構及其運動方式, 隨工件種類的不同, 差異很大.
工藝參數(shù)控制
控制工藝參數(shù), 保證工件表面的沉積原子數(shù)與轟擊原子數(shù)達到一定的比例, 對膜層的性能和質量至關重要.
KRI 在創(chuàng)新設計, 產(chǎn)品質量和技術專長方面享譽全球. 這些離子源可輸出高質量和穩(wěn)定的離子束, 通過控制器可以實現(xiàn)控制, 以提供確定的形狀, 電流密度和離子能量.
實際應用證明, 離子源用在鍍膜技術 IAC可制備出結合力很強的具有各種特殊的膜層, 如ZrN、ZrC、BN、TiO2和類金剛石碳膜等.
伯東是德國 , , , , 美國 , 美國, 美國 , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進口品牌的指定代理商.
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