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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZrAlN 薄膜

作者:伯東企業(yè)(上海)有限公司 來源:hakuto 發(fā)布時間:2023-04-04 瀏覽:12
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZrAlN 薄膜

合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。

 

北京某大學實驗室在對硬韌  ZrAlN 薄膜及薄膜力學性能研究中, 采用伯東   輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.

 

伯東 KRI  RFICP220 技術參數:

型號

RFICP220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦,   平行,   散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

試驗中, 采用伯東   輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 ZrAlN 薄膜, 更好的對 ZrAlN 薄膜進行研究.

 

KRI 的獨特功能實現了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 已經獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 技術的情況下是無法實現的.

 

因此,  該研究項目才采用  輔助濺射沉積工藝.

 

伯東是德國  ,  , , , 美國  , 美國, 美國  , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進口品牌的指定代理商.

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,   請參考以下聯絡方式:

上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
                    

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鄭重聲明:資訊 【KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 濺射沉積 ZrAlN 薄膜】由 伯東企業(yè)(上海)有限公司 發(fā)布,版權歸原作者及其所在單位,其原創(chuàng)性以及文中陳述文字和內容未經(企業(yè)庫www.5ix2s.cn)證實,請讀者僅作參考,并請自行核實相關內容。若本文有侵犯到您的版權, 請你提供相關證明及申請并與我們聯系(qiyeku # qq.com)或【在線投訴】,我們審核后將會盡快處理。
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