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光刻機檢漏
上海伯東客戶日本某生產(chǎn)半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件進行檢漏且要求清潔無油, 滿足無塵室使用要求, 為了方便進行快速檢漏, 采購伯東 Pfeiffer 便攜式氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 310.
光刻機檢漏方法: 采用真空模式檢漏, 漏率值設定為 1x10-11pa m3/s.
1. 通過波紋管與光刻機真空系統(tǒng)連接
2. 使用噴槍, 噴掃管路, 腔體焊縫, 接頭等部位, 如果存在超過設定漏率值的狹縫, 檢漏儀會時時發(fā)出聲光報警, 同時在屏幕上顯示漏率值.
便攜式 ASM 310 主要技術參數(shù)：
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對氦氣的最小檢測漏率 |
真空模式 5E-13 Pa m3/s ,吸槍模式 1E-8 Pa m3/s |
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檢測模式 |
真空模式和吸槍模式 |
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無油前級泵抽速 |
1.7 m3/h |
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檢測氣體 |
4He , 3He, H2 |
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響應時間 |
<1s |
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對氦氣的抽氣速度 |
1.1 l/s |
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進氣法蘭 |
DN 25 ISO-KF |
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進氣口max壓力 |
15 hPa |
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通訊接口 |
RS-232 |
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工作溫度 |
10-40 °C |
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噪音水平 |
< 45 dB (A) |
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尺寸 |
350 X 245 X 141 mm |
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重量 |
21 kg (46 lb) |
鑒于客戶信息保密, 若您需要進一步的了解, 請聯(lián)絡上海伯東鄧女士，分機134