濺射靶材使用
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

為保持鍍膜的成分特性,濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥,濺鍍腔內(nèi)裝入基材后便需將空氣抽出,達(dá)到工藝所要求的真空度。 暗區(qū)屏蔽罩,腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。紗紙拋光后, 再用酒精,去離子水清洗,同時(shí)建議使用工業(yè)吸塵器進(jìn)行濺射靶材清潔。

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金屬靶材
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

金屬靶材材質(zhì)分類:
⒈金屬靶材鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、鈮靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。

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濺射靶材分類
北京石久高研金屬材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發(fā)料的研發(fā)和生產(chǎn)工作,為電子行業(yè)、玻璃工業(yè)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業(yè)的鍍膜企業(yè)提供高品質(zhì)的靶材和蒸發(fā)料。公司主營金屬靶材、金屬材料、光學(xué)鍍膜材料等。

濺射靶材分類根據(jù)形狀可分為長靶,方靶,圓靶,異型靶根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材。根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、薄膜電阻靶材、導(dǎo)電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材。

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