1) PI-UV光離子簡(jiǎn)介：UV光離子廢氣處理技術(shù)是UV光解技術(shù)與低溫等離子體技術(shù)集成的技術(shù)，采用高能高臭氧的UV紫外光將惡臭氣體分子鍵斷裂，生成離子、原子、自由基等活性物質(zhì)，同時(shí)分解空氣中的氧氣分子，使其生成臭氧。臭氧有極強(qiáng)的氧化性，與被裂解的臭氣分子作用，將其氧化分解成無(wú)害物質(zhì)，如二氧化碳、水等。同時(shí)高能電場(chǎng)將惡臭氣體分子擊穿，產(chǎn)生活性物質(zhì)，與臭氧作用，被氧化分解成小分子物質(zhì)。等離子體裂解反應(yīng)、UV紫外光解反應(yīng)，臭氧高級(jí)氧化反應(yīng)及協(xié)同氧化反應(yīng)同時(shí)發(fā)生，兩種技術(shù)相互協(xié)助，使處理效果更好。
2) 設(shè)備優(yōu)點(diǎn)：
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{gx}除惡臭：利用UV光解技術(shù)、光催化技術(shù)及低溫等離子體技術(shù)協(xié)同處理廢氣的綜合凈化技術(shù)能{gx}去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物等要各類(lèi)污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率{zg}可達(dá)99%以上，脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）；
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運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.2度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗；
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設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件，設(shè)備占地面積＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量；
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等離子管與廢氣不直接接觸，減少了等離子管的損壞率，同時(shí)增加了設(shè)備的安全性能；
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設(shè)備箱體采用優(yōu)質(zhì)304不銹鋼制造，外形美觀、耐腐蝕性強(qiáng)、使用壽命長(zhǎng).
3) 適用領(lǐng)域：
由于該工藝凈化效率高，可以?xún)艋蟛糠謴U氣，主要用于噴漆車(chē)間、油墨印刷、噴涂車(chē)間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾焚燒發(fā)電（轉(zhuǎn)運(yùn)站、分揀處理廠、填埋場(chǎng)）等產(chǎn)生的有毒有害惡臭氣體處理。
