平面拋光機(jī)廠闡述拋光機(jī)的濕度影響
自動(dòng)拋光機(jī)拋光,研磨和拋光圓盤(pán)試樣應(yīng){jd1}平行并輕輕按壓在拋光盤(pán)上,注意防止試樣飛出去,因?yàn)閴毫^(guò)大而產(chǎn)生的新的標(biāo)記。
平面拋光機(jī)廠淺析,同時(shí)還應(yīng)使樣品旋轉(zhuǎn)和沿旋轉(zhuǎn)半徑方向來(lái)回移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損過(guò)快,在拋光過(guò)程中要不斷添加粉末懸浮液,拋光織物保持一定的濕度。
自動(dòng)拋光機(jī)拋光時(shí)間應(yīng)該去除劃痕比所需時(shí)間較長(zhǎng),因?yàn)橥瑫r(shí)拆下變形層。在粗糙打磨光滑,但黯淡無(wú)光,顯微鏡下穿制服,是精細(xì)打磨。
精細(xì)拋光轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高,平面拋光機(jī)廠分析,拋光時(shí)間去除損傷層粗拋光是合適的。經(jīng)過(guò)精細(xì)研磨拋光光亮如鏡,看不抓在明場(chǎng)顯微鏡的條件,但相反的照明條件下仍然看到標(biāo)志。