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PVD真空鍍鈦與傳統(tǒng)電鍍的區(qū)別

作者：耐斯科而五金經(jīng)營(yíng)部來(lái)源：lske2014 發(fā)布時(shí)間：2015-01-10 瀏覽：2571

PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。

兩者的不同點(diǎn)是：真空（PVD）鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。表面進(jìn)行真空離子鍍后可以大大的提高其耐磨耗、耐沖擊、耐腐蝕的能力，減少磨擦提高硬度

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.1μm～5μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變

PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點(diǎn)：

1 ．膜層與工件表面的結(jié)合力強(qiáng)，更加持久和耐磨

2 ．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復(fù)雜的工件

3 ．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高

4 ．可鍍膜層種類(lèi)廣泛

5 ．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認(rèn)證，可植入人體

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