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平面研磨機(jī)與非接觸式研磨原理的根本區(qū)別。
1、超精密平面研磨機(jī)主要應(yīng)用于亞納米級(jí)超光滑平面零件、中小型精密平面零件的超精密研磨和拋光加工。此外，通過(guò)附加工裝，東莞研磨機(jī)還可將其應(yīng)用于球類(lèi)和圓柱類(lèi)零件的超精密研磨、拋光加工。其主要技術(shù)指標(biāo)為加工工件平面度0.03μm/(50mm×50mm)，加工工件表面粗糙度Ra0.000 3μm。超精密平面研磨機(jī)具有高精度的拋光盤(pán)和運(yùn)動(dòng)主軸，軸向跳動(dòng)精度優(yōu)于0.2μm，能使零件與拋光盤(pán)保持在一定間隙下平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)。拋光盤(pán)主軸和工件主軸均為可調(diào)速的主動(dòng)驅(qū)動(dòng)軸，工件(上研磨盤(pán))與拋光盤(pán)(下研磨盤(pán))保持固定的偏心距繞各自軸線旋轉(zhuǎn)，利用上下主軸的“定偏心、同方向、同轉(zhuǎn)速”實(shí)現(xiàn)工件材料的均勻去除。在超精密平面研磨機(jī)上配有金剛石切削機(jī)構(gòu)，可以對(duì)下研磨盤(pán)(用金屬錫制成)進(jìn)行在線超精密螺旋線溝槽車(chē)削修整。上研磨盤(pán)直徑Φ180mm，下研磨盤(pán)直徑Φ500mm。超精密平面研磨機(jī)工藝試驗(yàn)中，上、下研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速相同，均為20r/min。
2、非接觸式超精密研磨原理是實(shí)現(xiàn)超精密研磨拋光的有效方法，因其在微小研磨粒子的撞擊和研磨液的化學(xué)作用下產(chǎn)生研磨作用，可獲得極高的研磨表面質(zhì)量，所以具有廣泛的應(yīng)用范圍。研磨時(shí)工件與研磨平板(拋光盤(pán))不直接接觸，工件的研磨平面靠自身重量浸泡于具有微小研磨粒子的研磨液中，通過(guò)研磨平板與工件的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，使研磨粒子與工件表面在近似平行的方向上發(fā)生碰撞，從而產(chǎn)生機(jī)械、化學(xué)的去除作用。由于研磨粒子直徑很小，在與零件表面近似平行的方向上碰撞時(shí)產(chǎn)生的切削力很弱，理論上能夠?qū)崿F(xiàn)原子級(jí)的材料去除，同時(shí)不破壞材料的晶格組織，在被加工表面幾乎不產(chǎn)生變質(zhì)層，故非接觸式研磨可獲得極高的零件表面加工質(zhì)量。零件表面與研磨平板間存在液膜的均化效應(yīng)，因此這種方法能夠獲得比其它研磨方法更高的面形精度。由于非接觸式研磨方法對(duì)材料的去除率較低，所以要求被研磨工件本身必須具有一定的精度與表面質(zhì)量。在研磨前，工件研磨表面的精度應(yīng)該控制在平面度1μm~3μm、表面粗糙度Ra0.4μm~Ra0.8μm的范圍內(nèi)，否則可能會(huì)造成嚴(yán)重塌邊以致無(wú)法達(dá)到工藝要求，需要重磨后再研磨，甚至導(dǎo)致工件報(bào)廢的后果。
