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鏡面拋光蠟,鏡面拋光分成機(jī)械鏡面拋光和化學(xué)溶液鏡面拋光。
機(jī)械鏡面拋光是在金屬材料上經(jīng)過(guò)磨光工序(粗磨、細(xì)磨)和拋光工序從而達(dá)到平整、光亮似鏡面般的表面。
化學(xué)溶液鏡面拋光是使用化學(xué)溶液進(jìn)行浸泡，去除表面氧化皮從而達(dá)到光亮效果。
機(jī)械鏡面拋光是在金屬材料上經(jīng)過(guò)磨光工序(粗磨、細(xì)磨)和拋光工序(WENDT三步拋光)從而達(dá)到平整、光亮似鏡面般的表面。
一、磨光工序
磨光的目的是為了獲得平整光滑的磨面。此時(shí)磨面上還留有極細(xì)而均勻的磨痕。磨光分為粗磨和細(xì)磨兩種。
1.粗磨 粗磨是將粗糙的表面和不規(guī)則外形修正成形。
2.細(xì)磨 經(jīng)過(guò)粗磨后金屬表面尚有很深的磨痕，需要在細(xì)磨中xc，為拋光做準(zhǔn)備。
二、鏡面拋光蠟,表面拋光工序
拋光工序是為了獲得光亮似鏡的表面加工過(guò)程。多數(shù)采用拋光輪來(lái)反復(fù)磨光后的零件表面上極微小的不平，通用于鍍層表面的修飾。
拋光是鍍層表面或零件表面{zh1}—道工序，其目的是要xc在磨光工序后還殘留在表面上的細(xì)微磨痕。理想的拋光面應(yīng)該是平整、光亮、無(wú)痕、天浮雕、無(wú)坑、無(wú)金屬擾亂層的似鏡面狀態(tài)的表面。經(jīng)過(guò)磨光與拋光后的磨面變化。
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