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電子工業(yè)用超純水技術(shù)？
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。 電子工業(yè)超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,EDI超純水設(shè)備
電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：
用兩級反滲透制取
電子工業(yè)超純水處理設(shè)備 采用兩級反滲透主機加EDI
制取電子工業(yè)超純水處理設(shè)備
制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程
采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點EDI水處理設(shè)備重點
采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復(fù)床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的{zx1}工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 電子工業(yè)用超純水設(shè)備
三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較 電子工業(yè)超純水設(shè)備,超純水設(shè)備,EDI超純水設(shè)備
目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面
{dy}種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。
第二種采用反滲透作為預(yù)處理D