廣告
微波等離子體化學(xué)氣相沉積法 Microwave Plasma CVD (MPCVD) 是目前國際上被用于高品質(zhì)金剛石膜制備的首 選方法. MPCVD 裝置將微波發(fā)生器產(chǎn)生的微波經(jīng)波導(dǎo)傳輸系統(tǒng)進(jìn)入反應(yīng)器, 并通入甲烷與氫氣的混合氣體, 在微波的激發(fā)下, 在反應(yīng)室內(nèi)產(chǎn)生輝光放電, 使反應(yīng)氣體的分子離化, 產(chǎn)生等離子體, 在基板臺(tái)上沉積得到金剛石膜. 上海伯東某客戶投資數(shù)億元采購 MPCVD 長晶設(shè)備用于人造金剛石的生產(chǎn), 預(yù)計(jì)年產(chǎn)量超萬片.
MPCVD 需要檢漏: 在使用 MPCVD 設(shè)備進(jìn)行金剛石合成的過程中, 如果設(shè)備有泄漏的情況, 將會(huì)使合成的金剛石中摻有雜質(zhì), 影響金剛石的品質(zhì), 一般漏率要求 1E-9 mbar l/s. 需要快速的對(duì)設(shè)備進(jìn)行定量定位的泄露檢測, 傳統(tǒng)檢漏方式無法滿足.
上海伯東 客戶案例: 為了解決這一問題, 上海伯東推薦客戶采購氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340, 利用真空法對(duì) MPCVD 進(jìn)行檢漏, 漏率設(shè)置 1E-9 mbar l/s.
1. 將設(shè)備通過波紋軟管連接, 確認(rèn)連接完畢
2. 啟動(dòng) ASM 340, 進(jìn)入待機(jī)界面; 初次啟動(dòng)時(shí)間大約 3min, 以后啟動(dòng) < 1min
3. 按下開始鍵, 先通過 bypass 閥門啟動(dòng) ACP 28 抽真空, 到達(dá)一定壓力檢漏儀 ASM 340 開始工作, 同時(shí)在設(shè)備懷疑有漏的地方噴氦氣 (腔體, 焊縫, 連接處); 若有漏, 馬上報(bào)警, 顯示該噴射點(diǎn)有漏.
4. 檢測完畢, 按下待機(jī)鍵, 放氣, 關(guān)閉電源, 移除連接管路.
氦質(zhì)譜檢漏儀 ASM 340 與傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏對(duì)比, 在提供無損檢漏的同時(shí)可以檢測出更小的漏率 5E-13 Pa m3/s, 利用氦氣作為示蹤氣體可精 確定位, 定量漏點(diǎn).
|
|
型號(hào) |
ASM 340 W |
|
對(duì)氦氣的最小檢測漏率 |
5E-13 Pa m3/s |
|
|
檢測模式 |
真空模式和吸槍模式 |
|
|
檢測氣體 |
4He, 3He, H2 |
|
|
啟動(dòng)時(shí)間 min |
3 |
|
|
對(duì)氦氣的抽氣速度 l/s |
2.5 |
|
|
進(jìn)氣口最 大壓力 hPa |
25 |
|
|
前級(jí)泵抽速 m3/h |
油泵 15 |
|
|
重量 kg |
56 |
結(jié)合了 Pfeiffer 與 Adixen 兩家的技術(shù)優(yōu)勢, 上海伯東德國 Pfeiffer 推出全系列新型號(hào), 從便攜式到工作臺(tái)式滿足各種不同的應(yīng)用. 替代傳統(tǒng)泡沫和壓差, 利用氦氣作為示蹤氣體可精 確定位, 定量漏點(diǎn). 滿足單機(jī)檢漏, 也可集成在系統(tǒng)或 PLC.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式：
上海伯東: 羅女士 臺(tái)灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 108 T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-03-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究！
