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電子束鍍膜機(jī)加裝霍爾離子源

作者:伯東企業(yè)(上海)有限公司 來源:hakuto 發(fā)布時(shí)間:2023-07-13 瀏覽:12
電子束鍍膜機(jī)加裝霍爾離子源

電子束鍍膜機(jī)加裝霍爾離子源

電子束鍍膜機(jī)加裝
上海伯東客戶某生產(chǎn)光學(xué)鏡片公司采購美國 KRI 考夫曼公司大尺寸加裝于電子束鍍膜機(jī)用于望遠(yuǎn)鏡用金屬零部件 IBAD 輔助鍍膜!
上海伯東電子束鍍膜機(jī)加裝典型案例: 根據(jù)客戶 Φ1.2m 鍍膜腔體尺寸, 基材尺寸和工藝條件, 推薦選用霍爾離子源 eh2000 HC, 配置中空陰極, 中和器, 自動控制器
1. 設(shè)備: Φ1.2m 電子束鍍膜機(jī).
2. 基材:望遠(yuǎn)鏡用零部件, 鍍鋁 Al, 最外層鍍一層二氧化硅 SiO2, 做為保護(hù)膜
3. 加裝霍爾離子源: eh2000HC, 通氧氣
3. 離子源條件: Vb:120V ( 離子束陽極電壓 ), Ib:14A ( 離子束陽極電流 ), O2 gas:45sccm( 氧氣 ).
4. 離子源應(yīng)用: 望遠(yuǎn)鏡用零部件鍍金屬膜
電子束鍍膜機(jī)加裝離子源腔體內(nèi)中的霍爾離子源 eh2000HC                                   通氧氣 O2               霍爾離子源 eh2000HC 自動控制器
 

離子源

美國 KRI 主要技術(shù)規(guī)格
尺寸: 直徑= 5.7“ 高= 4”
放電電壓 / 電流: 50-250V / 15A
可通氣體: Ar, O2, N2,H2
離子束發(fā)散角度:> 45° (hwhm)
水冷

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn), 和. 美國歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)產(chǎn)品信息或討論 , 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式 :

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
                    

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