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硅在常溫下性質(zhì)穩(wěn)定、紅外透明區(qū)寬、透明度好, 所形成的的硅薄膜質(zhì)硬、紅外區(qū)折射率高, 是一種較為理想的紅外光學(xué)薄膜材料, 非晶硅作為一種高折射率材料, 因此非晶硅薄膜廣泛運(yùn)用于紅外和激光技術(shù)中.
而影響非晶薄膜光學(xué)的主要工藝因素是沉積速率和基底溫度, 其次工作真空度的影響, 當(dāng)沉積速率和基底溫度升高時(shí), 薄膜的折射率先增大后減小, 當(dāng)工作真空度升高時(shí), 薄膜的折射率增大.
KRI 用于輔助沉積非晶硅紅外光學(xué)薄膜
某國內(nèi)光學(xué)薄膜制造商為了加快鍍膜沉積速率和獲得工作真空度, 并保持沉積速率和穩(wěn)定真空度, 該制造通過與伯東工程師進(jìn)行深入討論, 伯東工程師為其推薦美國 和.
美國 KRI 射頻 RFICP 380 特性:
1. 大面積射頻離子源
2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求
3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長, 更適合時(shí)間長的工藝要求
4. 離子束流: >1500 mA
5. 離子動(dòng)能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自動(dòng)控制器, 一鍵自動(dòng)匹配
8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW
9. 離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝
10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅(jiān)固耐用
11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
為了獲得更好的膜層, 離子源輔助鍍膜需要在真空環(huán)境下進(jìn)行, 因此鍍膜腔體需要將真空度抽至8x10-5 Pa, 該光學(xué)薄膜制造商采用普發(fā) Pfeiffer 對鍍膜腔體進(jìn)行抽真空.
Hipace 700產(chǎn)品優(yōu)勢:
1.結(jié)構(gòu)緊湊但功能強(qiáng)大的, 用于 N2 時(shí)的抽速可達(dá) 685 l/s
2.佳真空性能, 低功耗
3.集成的帶 Profibus 的驅(qū)動(dòng)電子裝置 TC 400
4.可在任方向安裝
5.帶有集成型水冷系統(tǒng)以保證氣體流量
6.通過 M12 插接頭的 Profibus 連接
7.廣泛的配件擴(kuò)展使用范圍
用伯東美國 KRI 用于輔助沉積非晶硅紅外光學(xué)薄膜, 其光學(xué)性能和機(jī)械性能均較優(yōu)異, 增強(qiáng)其耐久性, 滿足一般紅外光學(xué)系統(tǒng)的要求, 且可以制備大面積均勻的膜層, 達(dá)到共贏生產(chǎn)規(guī)模.
伯東是德國 , , , , 美國 , 美國, 美國 , 美國 Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.
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