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電子工業(yè)的飛速發(fā)展對線路板制造業(yè)的要求越來越高, 線路板層數越來越高, 孔密越來越大并向微孔化不斷發(fā)展, 某國內制造商為了銑刀進行銑邊及成型加工時, 減少產品的披鋒、毛刺及銑刀斷刀, 采用伯東 KRI 考夫曼聚焦型射頻 RFICP 380輔助鉆頭銑刀上鍍膜.
該制造商的真空離子鍍膜技術, 利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻 RFICP 380 轟擊靶材形成離子, 并使離子在強磁場的驅動下吸附于鉆頭或鑼刀上形成鍍層, 制備出鍍膜鉆頭及鍍膜銑刀.
用于濺射的 KRI 聚焦型射頻 RFICP 380 技術參數:
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射頻型號 |
RFICP 380 |
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Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
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離子束流 |
>1500 mA |
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離子動能 |
100-1200 V |
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柵極直徑 |
30 cm Φ |
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離子束 |
聚焦 |
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流量 |
15-50 sccm |
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通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型壓力 |
< 0.5m Torr |
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長度 |
39 cm |
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直徑 |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
推薦理由：
聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
運行結果:
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