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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積 BCx 薄膜

作者:伯東企業(yè)(上海)有限公司 來(lái)源:hakuto 發(fā)布時(shí)間:2023-04-25 瀏覽:15

蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼 RFICP140 作為濺射源濺射碳化硼靶和石墨靶(純度均為99.9%, CrMoAl 齒輪鋼和 Si100)表面沉積 BCx 薄膜

 

伯東 KRI 考夫曼 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

試驗(yàn)結(jié)論:

相同的沉積時(shí)間內(nèi), BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大硬度、彈性模量逐漸降低,微觀形貌的柱狀結(jié)構(gòu)特征越來(lái)越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學(xué)性能當(dāng)石墨靶電流為 2.4A 時(shí), BCx 薄膜的摩擦因數(shù)穩(wěn)定在 0.2 左右且具有更佳的耐磨性能。

 

KRI 的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 技術(shù)的情況下是無(wú)法實(shí)現(xiàn)的.

 

伯東是德國(guó)  , , , , 美國(guó)  , 美國(guó)HVA 真空閥門(mén)美國(guó)  , 美國(guó) Ambrell 和日本 NS 等進(jìn)口品牌的指定代理商.

 

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

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