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黃銅掩膜版超薄0.05mm不銹鋼遮光片精細(xì)加工非標(biāo)定制
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。
掩膜版材質(zhì)：
掩膜版根據(jù)基板材質(zhì)的不同可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。石英掩膜版使用 石英玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整耐磨，使用壽命長，主要用于高 精度掩膜版，蘇打掩膜版則使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版；而凸版使用不飽和聚丁二烯樹脂作為基板材料，主要用于液晶顯示器（LCD）制造過程中的定向材料移?。环屏质褂?PET 作為基板材料，主要用于電路板掩膜。