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陣列叉指電極掩膜版200um不銹鋼掩模版金屬掩膜板加工定制
本公司承接各種圖案定制，客戶較好能提供包含尺寸的CAD版設(shè)計圖。如果畫圖實在有困難，我們可以根據(jù)客戶描述來繪制，同時我們還能對客戶的掩膜版設(shè)計提供一些建議。
掩膜版的應(yīng)用
每個芯片上的實際電路結(jié)構(gòu)是用掩模版和光刻技術(shù)制作形成的。掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版上的不透明部分是用紫外線吸收材料制作的。光敏層即光刻膠被預(yù)先噴到半導(dǎo)體表面。
掩模和光刻工藝是很關(guān)鍵的，因為他們決定著器件的極限尺寸。除了紫外線，電子束和X射線也能用來對光刻膠進行曝光 。
掩模版的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機中，掩模版作為一個光學(xué)元件位于會聚透鏡（condenser lens）與投影透鏡（projection lens）之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版上的圖形縮小4~10倍（現(xiàn)代光刻機一般都是縮小4倍）后投射在晶圓表面。為了區(qū)別于接觸式曝光中使用的掩模版投影式曝光中使用的掩模又稱為倍縮式掩模（reticle） 。
華諾激光業(yè)務(wù)范疇包括前期的方案可行性研究和新制程開發(fā)服務(wù)、中期小規(guī)模試產(chǎn)和論證、后期的規(guī)?；慨a(chǎn)業(yè)務(wù)外包等，華諾激光致力于成為國內(nèi)激光精密微加工和微制造的**者，為客戶提供定制化、低成本和完善的**激光加工解決方案。
梁工