真空快速退火爐(RTP)一般都是以紅外鹵素?zé)魹榘l(fā)熱元件,升溫速度極快,采用熱電偶測溫并采用國際{lx1}的PID控制,具有很高的控溫精度,快速退火爐具有真空裝置,可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。
真空快速退火爐儀器規(guī)格:
真空快速退火爐加熱方式:紅外鹵素鎢燈;
{zd0}樣品尺寸: 2--6寸,單片;
{zg}溫度: 1200度;
真空快速退火爐工作氣體:最多3路氣體(MFC控制),可通入氧氣,氮?dú)饧岸栊詺怏w;
極限真空:5e-3torr;
真空泵:(可選配分子泵,干泵);
工藝控制:手動(dòng)工藝控制;
循環(huán)水冷卻,提高降溫速度;
結(jié)構(gòu)緊湊,經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。
真空快速退火爐應(yīng)用:
快速熱升溫工藝(熱退火);
薄柵氧化(納米器件);
低熔點(diǎn)壓焊(反應(yīng)金屬壓焊);
硅化物構(gòu)造;
硅化物界點(diǎn)構(gòu)造等。
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