(1)光源的選擇
在任何一種干膜都有其自身特有的光譜吸收曲線，而任何一種光源也都有其自身的發(fā)射光譜曲錢。如果某種干膜的光譜吸收主峰能與某種光源的光譜發(fā)射主峰相重疊或大部分重疊，則兩者匹配良好，曝光效果{zj0}。國產(chǎn)干膜的光譜吸收曲線表明，光譜吸收區(qū)為310 ~440nm,鏑燈、高壓汞燈、碘鎵燈在310~ 440nnl波長范圍均有較大輻射強(qiáng)度，是干膜曝光較理想的光源。
(2)曝光時(shí)間的控制
在曝光過程中，干膜的光聚合反應(yīng)并非一見光就完成反應(yīng)，而是需要一定的曝光時(shí)間進(jìn)行充分的反應(yīng)，當(dāng)曝光不足時(shí)，由于單體聚合的不徹底，在顯影過程中，膠膜溶漲變軟，線條不清晰，色澤暗淡，甚至月嫌，在電鍍前處理或電被過程中，膜起翹、滲鍍、甚至脫落。
當(dāng)曝光過度時(shí)會造成難于顯影，膠膜發(fā)脆，留下殘膠等弊?。徊徽_的曝光將產(chǎn)生圖像線寬的偏差，過量的曝光會使圖形電鍍的線條變細(xì)，使印制蝕刻的線條變粗，反之，曝光不足使圖形電鍍的線條變粗，使印制蝕刻的線條變細(xì)。為確定曝光時(shí)間，通常推薦使用瑞斯頓17級或斯圖費(fèi)21級光密度尺。
線路板廠在曝光定位中還需注意的就是目視定位：目視定位通常適用于使用重氮底版，重氮底版呈棕色或桔紅色的半透明狀態(tài)，但不透紫外光，透過重氮圖像使底版的焊盤與印制板的孔重合，用膠帶固定即可進(jìn)行曝光。
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