真金電鍍廠_真金電鍍需要多少，什么是真空電鍍

一般在一些真金電鍍廠里，制件鍍后的精飾處理決定于對(duì)制件外表鍍后的懇求，也決定于制件的外形尺寸及形狀。例如，小零件是在堿溶液中在鋼丸滾桶中滾光，而圓形制件則固定在拋光機(jī)進(jìn)行拋光，和洽的一些真金電鍍廠像東莞市千屹真空技能有限公司是一家專(zhuān)心于不銹鋼真金電鍍廠的立異公司。相同，拋光輪是硬質(zhì)合金或赤鐵礦(血石)制的；雜亂形狀的制件用手動(dòng)拋光；

刷光工序中從制件外表上會(huì)刷掉金，所以僅在不能選用其他種精飾方法時(shí)，才調(diào)運(yùn)用刷光。鍍583型合金使制件上色也歸于精飾工序。一般真金電鍍廠精飾上色就是在制件拋光后在含銅鹽的電解液中復(fù)鍍金，鍍層厚度為0．2～O．3μm。也可用真金電鍍廠層的電拋光替機(jī)械拋光工序。

有些零件不適合拋光時(shí)則用黃銅絲輪刷光，黃銅絲的直徑為聲0．10～0．15mm，刷光時(shí)零件上浸澆1％～2％的鉀堿溶液，刷光水可進(jìn)行復(fù)生。

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不銹鋼真空電鍍有什么用處_鈦鋼真空電鍍定義

真空電鍍條件下，將金屬（靶材）汽化成原子或離子絡(luò)合物，通過(guò)電壓直接沉積到鍍件表面的方法。在日本簡(jiǎn)稱(chēng)IP電鍍，在美國(guó)成為PVD，在國(guó)內(nèi)成為稱(chēng)為離子鍍。真空電鍍可選顏色多，鍍層薄，硬度高，符合環(huán)保要求，廣泛運(yùn)用于金屬表面處理。

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不銹鋼真空鍍膜廠家_鈦鋼鋼P(yáng)VD真空鍍膜哪家好

對(duì)于磁控濺射鍍膜氣體壓強(qiáng)方面：

(1) 不銹鋼真空鍍膜直流和中頻脈沖磁控濺射的工作氣體壓強(qiáng)一般在 0.3~0.8Pa 之間(典型值為5×10-1 Pa);

(2) 射頻磁控濺射鍍膜可以在10-1~10-2 Pa工作氣體壓強(qiáng)下正常進(jìn)行。

(3) 不銹鋼真空鍍膜真空腔室巨細(xì)、氣體流量、真空抽速和閘板閥開(kāi)合角度等多種要素都或許影響到工作氣體壓強(qiáng)。工作氣體壓強(qiáng)的最終查看值，實(shí)際上應(yīng)看作是氣體流量-真空抽速與閘板閥開(kāi)合角度等參數(shù)的動(dòng)態(tài)平衡的成果。

(4) 有些陰極靶材的磁控濺射鍍膜技能(如對(duì)膜層的純度和表面粗造度懇求不高)還可以在1pa ~ 10Pa，甚至更高的工作氣體壓強(qiáng)下進(jìn)行堆積鍍膜。

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真空電鍍槍色處理_真空電鍍槍色多少

真空電鍍槍色，一種鐵黑色閃現(xiàn)寒光的色調(diào)，因?yàn)樗穷?lèi)似于鋼槍表面的光色。槍色的新穎性在于它因槍色添加劑含量不同，可根據(jù)需要得到不同深淺的色澤。真空電鍍它不似黑鎳，隨鍍層不斷增厚，色澤依黃一橙一紅一棕紅一紫一藍(lán)一黑變化，在黑鎳鍍液中是無(wú)法得到淺黑色的。這種色調(diào)是電鍍錫鎳合金、錫鈷合金或鎳得到的。

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真空電鍍能用在什么產(chǎn)品上_不銹鋼產(chǎn)品可以真空電鍍嗎

除開(kāi)合金物件，其他的一些像不銹鋼、鈦鋼以及小五金等物件它們都是選用在真空條件下，經(jīng)過(guò)蒸餾或?yàn)R射等辦法在塑件外表堆積各種金屬和非金屬薄膜，經(jīng)過(guò)這么的辦法能夠得到非常薄的外表真空鍍膜技能鍍層，一起具有速度快附著力好的突出利益。

真空鍍膜技能性價(jià)比也對(duì)比高，雖然能夠進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，但是歸于環(huán)保電鍍領(lǐng)域，其他通常用來(lái)作較商品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層運(yùn)用。

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不銹鋼真空鍍膜廠家_鈦鋼鋼P(yáng)VD真空鍍膜哪家好

對(duì)于磁控濺射鍍膜氣體壓強(qiáng)方面：

(1) 不銹鋼真空鍍膜直流和中頻脈沖磁控濺射的工作氣體壓強(qiáng)一般在 0.3~0.8Pa 之間(典型值為5×10-1 Pa);

(2) 射頻磁控濺射鍍膜可以在10-1~10-2 Pa工作氣體壓強(qiáng)下正常進(jìn)行。

(3) 不銹鋼真空鍍膜真空腔室巨細(xì)、氣體流量、真空抽速和閘板閥開(kāi)合角度等多種要素都或許影響到工作氣體壓強(qiáng)。工作氣體壓強(qiáng)的最終查看值，實(shí)際上應(yīng)看作是氣體流量-真空抽速與閘板閥開(kāi)合角度等參數(shù)的動(dòng)態(tài)平衡的成果。

(4) 有些陰極靶材的磁控濺射鍍膜技能(如對(duì)膜層的純度和表面粗造度懇求不高)還可以在1pa ~ 10Pa，甚至更高的工作氣體壓強(qiáng)下進(jìn)行堆積鍍膜。

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真空電鍍比水鍍好嗎？真空電鍍有什么作用？

真空電鍍分色電金又稱(chēng)分色電鍍、多色電鍍、電分色、電金分色。是指同一飾品含有兩種及以上顏色覆層（鍍層）的一種首飾表面處理技術(shù)。用于K金首飾上。首飾表面經(jīng)過(guò)打磨、拋光后，再經(jīng)過(guò)鍍前處理和電鍍，形成電鍍層，使得首飾更顯得光亮無(wú)比、美麗動(dòng)人。

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真空鍍膜有什么用處_真空鍍膜的原理是什么

通常對(duì)于一些不銹鋼真空鍍膜、鈦鋼真空鍍膜以及小五金等物件選用真空鍍膜技能處理，通常有三種品種：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種多見(jiàn)的真空電鍍類(lèi)型。而如今市場(chǎng)上對(duì)于合金物件大多數(shù)電鍍加工廠家不建議選用真空電鍍，小編經(jīng)過(guò)多年來(lái)對(duì)電鍍資料的選用分析，聯(lián)絡(luò)真空鍍膜技能有關(guān)技能資料，簡(jiǎn)略拾掇出了以下三點(diǎn)因素：

1、合金物件因?yàn)椴荒透邷兀ㄍǔＵ婵諣t內(nèi)溫度高達(dá)200℃），合金真空電鍍?cè)?10℃后初步起泡；影響商品外觀；

2、合金物件在真空鍍膜時(shí)，前期需要打底層，無(wú)形中增加了技能的復(fù)雜性；

3、對(duì)比不銹鋼、鈦鋼或其他純金屬鍍件對(duì)比，合金物件真空電鍍本偏高；

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國(guó)內(nèi)PVD電鍍水平哪家好—不銹鋼P(yáng)VD鍍鉻技術(shù)原理

本技術(shù)主要采用電弧-濺射技術(shù)，利用陰陽(yáng)極之間的放電離化氬氣，使氬離子在作為陰極的靶材電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，PVD電鍍中性的靶原子或離子沉積在基片上，形成固體薄膜。本項(xiàng)目在上述原理的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)和新技術(shù)開(kāi)發(fā)，采用改進(jìn)的電弧-濺射技術(shù)提高靶功率密度，采用等離子體源增強(qiáng)技術(shù)提高鍍膜室的等離子體密度，從而開(kāi)發(fā)出環(huán)保、{gx}的快速PVD電鍍鍍鉻新技術(shù)。

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真空鍍膜加工_不銹鋼真空鍍膜_真空鍍膜技術(shù)

在真空中制備膜層，真空鍍膜bao括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。真空鍍膜雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

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國(guó)內(nèi)PVD電鍍水平哪家好—不銹鋼P(yáng)VD鍍鉻技術(shù)原理

本技術(shù)主要采用電弧-濺射技術(shù)，利用陰陽(yáng)極之間的放電離化氬氣，使氬離子在作為陰極的靶材電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，PVD電鍍中性的靶原子或離子沉積在基片上，形成固體薄膜。本項(xiàng)目在上述原理的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)和新技術(shù)開(kāi)發(fā)，采用改進(jìn)的電弧-濺射技術(shù)提高靶功率密度，采用等離子體源增強(qiáng)技術(shù)提高鍍膜室的等離子體密度，從而開(kāi)發(fā)出環(huán)保、{gx}的快速PVD電鍍鍍鉻新技術(shù)。

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不銹鋼真空電鍍廠家_東莞不銹鋼P(yáng)VD真空電鍍哪家好

靶材可制作成各種形狀，協(xié)作機(jī)臺(tái)的格外方案做非常好的操控及最有功率的出產(chǎn) 真空磁控濺射鍍膜運(yùn)用高壓電場(chǎng)做發(fā)生等離子鍍膜物質(zhì)，運(yùn)用幾乎悉數(shù)高熔點(diǎn)金屬，合金和金屬氧化物，如：鉻，鉬，鎢，鈦，銀，金等。而且，它是一個(gè)強(qiáng)行堆積的進(jìn)程，選用這種技能取得的真空電鍍層與塑膠基材附著力遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于真空磁控濺射鍍膜法.不過(guò)加工成本相對(duì)較高。

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不銹鋼真空電鍍有什么用處_鈦鋼真空電鍍定義

真空電鍍條件下，將金屬（靶材）汽化成原子或離子絡(luò)合物，通過(guò)電壓直接沉積到鍍件表面的方法。在日本簡(jiǎn)稱(chēng)IP電鍍，在美國(guó)成為PVD，在國(guó)內(nèi)成為稱(chēng)為離子鍍。真空電鍍可選顏色多，鍍層薄，硬度高，符合環(huán)保要求，廣泛運(yùn)用于金屬表面處理。

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蒸發(fā)鍍膜原理_不銹鋼可以用蒸發(fā)鍍膜去電鍍嗎

蒸發(fā)不銹鋼鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 蒸發(fā)鍍膜：通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)已成為常用鍍膜技術(shù)之一。 蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，不銹鋼鍍膜待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。

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真空鍍膜加工_不銹鋼真空鍍膜_真空鍍膜技術(shù)

在真空中制備膜層，真空鍍膜bao括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。真空鍍膜雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

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水電鍍，真空電鍍與PVD電鍍的區(qū)別-不銹鋼P(yáng)VD真空電鍍

水電鍍：是指金屬通過(guò)水傳導(dǎo)到工件表面（產(chǎn)品需浸入含金屬離子的水內(nèi)）；

真空電鍍=PVD不銹鋼電鍍指在真空環(huán)境下把金屬氣化在電場(chǎng)作用下傳導(dǎo)到工件表面。PVD電鍍

東莞千屹電鍍有限公司專(zhuān)注不銹鋼環(huán)保PVD真空電鍍行業(yè)的加工，目前擁有國(guó)際高新真空環(huán)保電鍍技術(shù)。成為行業(yè)環(huán)保電鍍先進(jìn)技術(shù)領(lǐng)航企業(yè)。

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真空電鍍槍色處理_真空電鍍槍色多少

真空電鍍槍色，一種鐵黑色閃現(xiàn)寒光的色調(diào)，因?yàn)樗穷?lèi)似于鋼槍表面的光色。槍色的新穎性在于它因槍色添加劑含量不同，可根據(jù)需要得到不同深淺的色澤。真空電鍍它不似黑鎳，隨鍍層不斷增厚，色澤依黃一橙一紅一棕紅一紫一藍(lán)一黑變化，在黑鎳鍍液中是無(wú)法得到淺黑色的。這種色調(diào)是電鍍錫鎳合金、錫鈷合金或鎳得到的。

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蒸發(fā)鍍膜原理_不銹鋼可以用蒸發(fā)鍍膜去電鍍嗎

蒸發(fā)不銹鋼鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。 蒸發(fā)鍍膜：通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)已成為常用鍍膜技術(shù)之一。 蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，不銹鋼鍍膜待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。

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真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

 近些年來(lái)，由于電鍍行業(yè)積極推動(dòng)清潔生產(chǎn)和環(huán)境保護(hù)，電鍍技術(shù)和添加劑不斷創(chuàng)新，我們的電鍍工藝已達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，我們已經(jīng)能制造計(jì)算機(jī)控制全自動(dòng)電鍍生產(chǎn)線，我們已經(jīng)能制造國(guó)際先進(jìn)的電鍍廢水、廢氣處理裝置。
       

真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

      專(zhuān)業(yè)電鍍廠的電鍍?cè)絹?lái)越被廣泛應(yīng)用,而且也有所遞增,然而對(duì)于它的電鍍?cè)硎侨绾蔚?詳情看如下介紹.
      專(zhuān)業(yè)電鍍廠電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強(qiáng)金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、潤(rùn)滑性、耐熱性、和表面美觀。專(zhuān)業(yè)電鍍廠的電鍍時(shí)，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽(yáng)極，待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽(yáng)離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽(yáng)離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽(yáng)離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽(yáng)離子的濃度不變。
    以上是專(zhuān)業(yè)電鍍廠進(jìn)行電鍍的一個(gè)簡(jiǎn)單介紹過(guò)程.也可以從其它不同的方面進(jìn)行理解.

        固態(tài)的金屬都是由金屬原子組成的晶體。電鍍時(shí)，溶液中的簡(jiǎn)單金屬離子或其絡(luò)離子，在電極與溶液界面間獲得電子，被還原成為具有一定結(jié)構(gòu)的金屬晶體。因?yàn)檫@種金屬晶體是在陰極還原的情況下形成的，故稱(chēng)之電結(jié)晶。
        結(jié)晶組織較細(xì)的電鍍層，其防護(hù)性能和外觀質(zhì)量都較理想。提高金屬電結(jié)晶時(shí)的陰極極化作用，可以提高晶核的生成速度，便于獲得結(jié)晶細(xì)致的電鍍層。但是不能認(rèn)為陰極極化作用愈大愈好。因?yàn)殛帢O極化作用超過(guò)一定范圍，會(huì)導(dǎo)致氫氣的大量析出，從而使電鍍層變得多孔、粗糙、疏松、燒焦，甚至是粉末狀的，質(zhì)量反而下降。

真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

局部電鍍之涂料絕緣法　

   　通常按其施鍍面積可將電鍍分為全部鍍和局部鍍兩種。許多需局部電鍍的零件就要對(duì)其非鍍面進(jìn)行絕緣保護(hù)，這就要用不同的局部絕緣方法來(lái)滿足施工的技術(shù)要求，以保證零件非鍍面不會(huì)鍍上鍍層，尤其是有特殊要求的零件。根據(jù)日常的工作經(jīng)驗(yàn)，現(xiàn)介紹電鍍中常用的幾種局部電鍍工藝方法。
　　電鍍時(shí)經(jīng)常使用漆類(lèi)絕緣涂料進(jìn)行絕緣保護(hù)。這種絕緣保護(hù)方法操作簡(jiǎn)便，可適用于復(fù)雜零件。常用的絕緣涂料有過(guò)氯乙烯防腐清漆、聚氯乙烯絕緣涂料、硝基膠等。

真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

什么是真空電鍍？

真空電鍍是在超低壓容器中，利用電場(chǎng)的遷移作用對(duì)被鍍件涂覆金屬、金屬化合物、或非金屬涂層的一種工藝。

我司誠(chéng)心和各行業(yè)廠家合作，“以客為首，以質(zhì)為本”的承諾，確保注塑、電鍍產(chǎn)品不斷進(jìn)步的品質(zhì)要求，提高企業(yè)的經(jīng)濟(jì)效益！ 公司憑借優(yōu)良的技術(shù)、過(guò)硬的質(zhì)量、優(yōu)質(zhì)的售后fu務(wù)。

真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

        近些年來(lái)，由于電鍍行業(yè)積極推動(dòng)清潔生產(chǎn)和環(huán)境保護(hù)，電鍍技術(shù)和添加劑不斷創(chuàng)新，我們的電鍍工藝已達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平，我們已經(jīng)能制造計(jì)算機(jī)控制全自動(dòng)電鍍生產(chǎn)線，我們已經(jīng)能制造國(guó)際先進(jìn)的電鍍廢水、廢氣處理裝置。
        據(jù)資料報(bào)道，2009年中國(guó)制造業(yè)在全球制造業(yè)總值中所占比例已達(dá)15.6%，成為僅次于美國(guó)的全球第二工業(yè)制造國(guó)。我國(guó)制造業(yè)的優(yōu)勢(shì)是勞動(dòng)力成本、資源消耗和環(huán)境影響，但是，隨著國(guó)際社會(huì)的發(fā)展，這三個(gè)優(yōu)勢(shì)將逐漸成為劣勢(shì)。電鍍作為制造業(yè)的中間工序，與制造業(yè)形勢(shì)一樣，我們現(xiàn)在是電鍍大國(guó)，要實(shí)現(xiàn)電鍍強(qiáng)國(guó)，還需要大力發(fā)展職業(yè)教育，為企業(yè)培養(yǎng)技術(shù)人員。

真空電鍍具有超強(qiáng)附著力   

     真空電鍍采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時(shí)具有速度快附著力好的突出優(yōu)點(diǎn)，但是價(jià)格也較高，可以進(jìn)行操作的金屬類(lèi)型較少，一般用來(lái)作較高檔產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。
        真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊、工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。需經(jīng)過(guò)產(chǎn)品表面清潔、去靜電、噴底漆、烘烤底漆、真空鍍膜、噴面漆、烘烤面漆、bao裝等工藝流程。 真空電鍍適用范圍較廣，如ABS料、PC料的產(chǎn)品。同時(shí)因其工藝流程復(fù)雜、環(huán)境、設(shè)備要求高，單價(jià)比水電鍍昂貴。

    關(guān)于UV電鍍加工廠進(jìn)行電鍍的時(shí)候特別是塑料件的UV電鍍和普通真空電鍍相比，有什么優(yōu)缺點(diǎn)?
    塑膠的UV電鍍跟真空電鍍工藝流程基本一樣，只是UV電鍍加工廠電鍍的表面硬度、粘性比真空電鍍的強(qiáng)，單價(jià)方面UV電鍍跟普通真空電鍍的單價(jià)比列大約是4:1左右。UV鍍的{zd1}硬度能達(dá)到1H，而真空鍍能達(dá)到HB就很不錯(cuò)了，具體方面還要看電鍍廠會(huì)不會(huì)偷工減料（具體表現(xiàn)在底油和光油方面）；要想鍍出好的產(chǎn)品，除油方面很重，手汗會(huì)產(chǎn)生很多不良品，這點(diǎn)需要自己長(zhǎng)期監(jiān)督的，不然電鍍廠會(huì)說(shuō)是素材問(wèn)題，讓你不停地生產(chǎn)素材，加重了生產(chǎn)成本。這是簡(jiǎn)單介紹UV電鍍加工廠電鍍相比兩種不同的電鍍的一個(gè)過(guò)程.也可以從其它不同的方面進(jìn)行理解.

電鍍電源的四個(gè)發(fā)展階段 

    1，運(yùn)用直流發(fā)電機(jī)作為電鍍電源階段，這種電源耗能大、效率低、噪聲大．已經(jīng)被淘汰。 　　
    2，運(yùn)用硅整流作為電鍍電源階段，是直流發(fā)電機(jī)的換產(chǎn)品，技術(shù)十分成熟，但效率低，體積大，控制不方便。目前，仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。 　　
     3，運(yùn)用可控硅整流作為電鍍電源階段，是目前替硅整流電源的主流電源，具有效率高、體積小、調(diào)控方便等特點(diǎn)。隨著核心器件——可控硅技術(shù)的成熟與發(fā)展．該電源技術(shù)日趨成熟，已獲得廣泛應(yīng)用。 　　
     4,晶體管開(kāi)關(guān)電源（即脈沖電源）作為電鍍電源階段脈沖電鍍電源是當(dāng)今最為先進(jìn)的電鍍電源，它的出現(xiàn)是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、效率高、性能優(yōu)越、紋波系數(shù)穩(wěn)定．而且不易受輸出電流影響等特點(diǎn)。脈沖電鍍電源是發(fā)展的方向，現(xiàn)已開(kāi)始在企業(yè)中使用罔。

      伴隨著現(xiàn)化的一個(gè)發(fā)展,越來(lái)越多的UV電鍍廠不斷出現(xiàn)在人們的生活中,然而對(duì)于這樣的一種物料它究竟具有哪些特別相關(guān)介紹.同時(shí)在這里也簡(jiǎn)單介紹下真空電鍍廠的一些相關(guān)介紹過(guò)程.一般真空電鍍的做法是在素材上先噴一層底漆，再做電鍍．由于素材是塑料件，在注塑時(shí)會(huì)殘留空氣泡，有機(jī)氣體，而在放置時(shí)會(huì)吸入空氣中的水分．另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會(huì)出現(xiàn)氣泡，水泡等不良狀況．噴上一層底漆以后，會(huì)形成一個(gè)光滑平整的表面，并且杜絕了塑料本身存在的氣泡水泡的產(chǎn)生，使得電鍍的效果得以展現(xiàn)．以上是簡(jiǎn)析真空電鍍廠的一些相關(guān)表現(xiàn)過(guò)程.

電鍍電源的四個(gè)發(fā)展階段 

    1，運(yùn)用直流發(fā)電機(jī)作為電鍍電源階段，這種電源耗能大、效率低、噪聲大．已經(jīng)被淘汰。 　　
    2，運(yùn)用硅整流作為電鍍電源階段，是直流發(fā)電機(jī)的換產(chǎn)品，技術(shù)十分成熟，但效率低，體積大，控制不方便。目前，仍有許多企業(yè)使用這種電鍍電源。 　　
     3，運(yùn)用可控硅整流作為電鍍電源階段，是目前替硅整流電源的主流電源，具有效率高、體積小、調(diào)控方便等特點(diǎn)。隨著核心器件——可控硅技術(shù)的成熟與發(fā)展．該電源技術(shù)日趨成熟，已獲得廣泛應(yīng)用。 　　
     4,晶體管開(kāi)關(guān)電源（即脈沖電源）作為電鍍電源階段脈沖電鍍電源是當(dāng)今最為先進(jìn)的電鍍電源，它的出現(xiàn)是電鍍電源的一次革命。這種電源具有體積小、效率高、性能優(yōu)越、紋波系數(shù)穩(wěn)定．而且不易受輸出電流影響等特點(diǎn)。脈沖電鍍電源是發(fā)展的方向，現(xiàn)已開(kāi)始在企業(yè)中使用罔。