涂料及無機顏料膠體磨，色漿研磨均質(zhì)機，漿料研磨均質(zhì)機,色漿研磨機，，高剪切研磨均質(zhì)機
色漿研磨均質(zhì)機采用了二級處理結(jié)構(gòu),{dy}級采用了高剪切研磨均質(zhì)機的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機的分散乳化模塊,第二級模塊可根據(jù)客戶對物料的處理要求開配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了國際{lx1}水平。
涂料及無機顏料膠體磨是CIK（上海）公司2013研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
涂料及無機顏料膠體磨NKD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：
研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
{dy}級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出最終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
NKD 2000/4
300
9,000
23
2.2
DN25/DN15
NKD 2000/5
1000
6,000
23
7.5
DN40/DN32
NKD 2000/10
3000
4,200
23
22
DN80/DN65
NKD 2000/20
8000
2,850
23
37
DN80/DN65
NKD 2000/30
20000
1,420
23
55
DN150/DN125
NKD2000/50
60000
1,100
23
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到{zd0}允許量的10%。
色漿 CIK研磨均質(zhì)機有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。{dy}級刀頭形狀,可以把相對大塊的物料進行初步粉碎,以便能順利通過更細(xì)的兩級進行細(xì)微化研磨。 磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級磨齒,但他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
色漿研磨均質(zhì)機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到{zd1},保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
